Laserverfahren für die Mikrostrukturierung dünner Schichten zeigt das Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILT auf der Fachmesse für gedruckte Elektronik LOPEC in München vom 29. bis zum 30. März 2017. Innovative Lösungen für die Anwendungsbereiche Photovoltaik und Dünnschichttechnologie werden auf dem Gemeinschaftsstand 405 des COPT.NRW in Halle B0 präsentiert.
Strukturgrößen kleiner als 10 µm, Geschwindigkeiten mit Flächenraten von einigen mm2/min und die Anwendbarkeit bis in den m2-Bereich: Die Anforderungen an eine konkurrenzfähige Produktion organischer Elektronik sind hoch. Die Wissenschaftler des Fraunhofer ILT erforschen laserbasierte Prozesse für die flexible Mikrostrukturierung von dünnen Schichten, mit denen sich komplexe Strukturen bei hohen Flächenraten erzeugen lassen. Angepasste Wellenlängen und Pulsdauern ermöglichen dabei die Nutzung spezieller optischer Eigenschaften organischer und anorganischer Materialien.
Auch bei hohen Geschwindigkeiten strukturiert der Laser die dünnen Schichten in den entwickelten Verfahren präzise. Mit verschiedenen Ansätzen zur Strahlführung und -formung lassen sich Auflösung und Produktivität im Vergleich zu herkömmlichen Prozessen deutlich verbessern. Unsere Experten geben Ihnen auf der LOPEC 2017 gerne detaillierte Informationen zu diesem Thema.
Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILT