Die Experten des Fraunhofer ILT entwickeln und evaluieren Strahlquellen zur EUV-Lithografie und die entsprechende Messtechnik. Die von leistungsstarken Lasern angetriebenen Plasmaquellen erzeugen die extrem ultraviolette Strahlung für die Strukturierung modernster Halbleiter und sind eine wesentliche Komponente zur Miniaturisierung von Elektronik.
Neben der Strukturerzeugung auf Nanometerskala spielt die Aufbau- und Verbindungstechnik für leistungsfähige Elektronikkomponenten eine entscheidende Rolle. Gemeinsam mit Industriepartnern werden am Fraunhofer ILT beispielsweise neue Verbindungstechniken für die Batteriekontaktierung und Leistungsbauteile entwickelt.
Weitere Kompetenzen des Fraunhofer ILT liegen in der Strukturierung und Funktionalisierung von Oberflächen sowie in der 3D-Volumenstrukturierung. So lassen sich durch selektives Laser-Ätzen mikroskopische Strukturen in Glas- oder Saphir-Substrate einbringen, mit denen mikrofluidische Systeme für biochemische Analysen realisiert werden.