Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILTUnser Leistungsangebot
Die Miniaturisierung u. a. im Bereich der Elektronik und Halbleiterindustrie erfordert zunehmend messtechnische und lithographische Verfahren, die feine Strukturen im Nano- und Subnanometerbereich erfassen und modifizieren können. Hier wird Strahlung mit sehr kurzer Wellenlänge im EUV-Bereich (Extrem Ultraviolett) – beispielsweise 13,5 nm – eingesetzt, um hochpräzise und komplexe Strukturanordnungen zu fertigen.
Am Fraunhofer ILT werden hierzu EUV-Strahlungsquellen und entsprechende Verfahren für die Materialbearbeitung und -analyse entwickelt. Die EUV-Technologien sind hochsensitiv für Strukturen mit nanoskaligen Abmessungen und lassen sich besonders vorteilhaft in der Halbleiterfertigung einsetzen. Dies erfordert neuartige Photoresists, die gleichzeitig eine hohe Empfindlichkeit und eine hohe Auflösung aufweisen müssen. Das am Fraunhofer ILT entwickelte EUV-Belichtungssystem kann die Entwicklung solcher Materialien kosteneffizient unterstützen.
Das Leistungsangebot umfasst Machbarkeitsstudien zu kundenspezifischen Aufgabenstellungen, die Entwicklung und Realisierung angepasster Belichtungsanlagen, Untersuchungen zum Verhalten von Fotolaken und andere Materialien unter EUV-Bestrahlung, die Integration der EUV-Lithographie in Fertigungsprozesse sowie individuelle Beratung.
