Lasermesstechnik und EUV-Technologie

Unsere Leistungsangebote

Schwerpunkte dieses Technologiefeldes sind die Fertigungsmesstechnik, Materialanalytik, Identifikations- und Analysetechnik im Bereich Recycling und Rohstoffe, Mess- und Prüftechnik für Umwelt und Sicherheit sowie der Einsatz von EUV-Technik.

Lasermesstechnik und EUV-Technologie

Die Schwerpunkte des Technologiefeldes Lasermesstechnik und EUV-Technologie liegen in der Fertigungsmesstechnik, der Materialanalytik, der Identifikations- und Analysetechnik im Bereich Recycling und Rohstoffe, der Mess- und Prüftechnik für Umwelt und Sicherheit sowie dem Einsatz von EUV-Technik. In der Fertigungsmesstechnik werden Verfahren und Systeme für die Inline-Messung physikalischer und chemischer Größen in einer Prozesslinie entwickelt. Schnell und präzise werden Abstände, Dicken, Profile oder die chemische Zusammensetzung von Rohstoffen, Halbzeugen oder Produkten gemessen.

Im Bereich Materialanalytik wurde profundes Know-how mit spektroskopischen Messverfahren aufgebaut. Anwendungen sind die automatische Qualitätssicherung und Verwechslungsprüfung, die Überwachung von Prozessparametern oder die Online-Analyse von Abgasen, Stäuben und Abwässern. Je genauer die chemische Charakterisierung von Recyclingprodukten ist, umso höher ist der Wiederverwertungswert. Die Laser-Emissionsspektroskopie hat sich hier als besonders zuverlässige Messtechnik erwiesen. Neben der Verfahrensentwicklung werden komplette Prototypanlagen und mobile Systeme für den industriellen Einsatz gefertigt.

In der EUV-Technik entwickeln die Experten Strahlquellen für die Lithografie, die Mikroskopie, die Nanostrukturierung oder die Röntgenmikroskopie. Auch optische Systeme für Applikationen der EUV-Technik werden berechnet, konstruiert und gefertigt.

Projektergebnisse

Berichte aus den letzten Jahren zur Lasermesstechnik und EUV-Technologie

Ausstattung Lasermesstechnik und EUV-Technologie

  • Laser-Spektroskopie-Systeme zur chemischen Analyse fester, flüssiger und gasförmiger Stoffe
  • Lasertriangulationssensoren und absolut messende interferometrische Sensoren zur Abstands- und Konturvermessung
  • Laser-Koordinatenmessmaschine
  • Konfokales Laser-Scanning-Mikroskop
  • Raster Elektronen Mikroskop
  • Vorrichtungen zur Kalibrierung von Diagnostik für extreme ultraviolette Strahlung
  • Anlage zur Nanostrukturierung mittels EUV-Interferenzlithografie
  • Labor-Röntgenmikroskop
  • Messequipment zur Charakterisierung von EUV-Strahlungsquellen und EUV-Optik-Komponenten
  • Plasmastrahlungsquellen für die extrem ultraviolette und weiche Röntgenstrahlung
  • Atmosphärendruckplasmen zur Behandlung von Oberflächen